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乾式エッチング かんしきエッチング dry etching

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ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

乾式エッチング
かんしきエッチング
dry etching

ドライエッチング半導体デバイスの製作技術において半導体表面を除去する (エッチングという) 方法の一つ。従来おもに用いられてきた化学エッチングが液体の化学薬品を用いる湿式エッチングであるのに対し,化学薬品を用いない,プラズマエッチング plasma etching,イオンエッチング ion etching,スパッタエッチング sputter etchingを総称して乾式エッチングと呼ぶ。

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出典|ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典
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