ヘテロエピタキシー(読み)へてろえぴたきしー

世界大百科事典(旧版)内のヘテロエピタキシーの言及

【エピタキシー】より

…前者の例ではゼノタイムとクサビ石,赤鉄鉱とチタン鉄鉱の間で,後者の例ではテルルとセレンの間で,結晶軸が合致して成長する例は有名である。 電子工業では,基体(板)上に同一物を方位を合わせて成長させる場合にもいい,基板と成長させる結晶が異なる場合をとくにヘテロエピタキシーと呼ぶことが多い。1960年ころからエピタキシャル結晶成長がシリコン,リン化ガリウムやヒ化ガリウムなどを材料とする半導体デバイス製造に多用されている。…

※「ヘテロエピタキシー」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典|株式会社平凡社「世界大百科事典(旧版)」

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