世界大百科事典（旧版）内のメカノケミカルポリシングの言及
【研磨】より
…また，ICや超LSI基板のような半導体部品や光応用素子などの最終研磨には，研磨面を砥粒の機械的な引っかき作用を主体に創成するのではなく，表面の結晶構造をできるだけ乱さないように仕上げるため，無じょう乱研磨が採用される。この一つであるメカノケミカルポリシングでは，研磨液に弱アルカリ溶液や硫酸や塩酸などの酸性溶液が用いられ，コロイド状砥粒の機械的作用と研磨液の化学的作用との複合効果を利用して，表面あらさが20Å以下の鏡面仕上げが能率よく行われる。研磨材鑢（やすり）【長谷川 素由】。…
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出典｜株式会社平凡社「世界大百科事典（旧版）」