世界大百科事典（旧版）内のリフト・オフ（工業）の言及
【フォトファブリケーション】より
…超LSIの高集積化が進むとともに素子の微細化も著しく，μmから0.1μmのオーダーの加工精度を得るために，露光する光として紫外光から遠紫外線，さらにはX線と短波長を，または電子ビームやイオンビームのような荷電粒子を用いるようになってきている。またマイクロリソグラフィーの技術として前出の二つの方法以外に薄膜技術を応用したリフトオフも用いられている。
［フォトエッチングphoto‐etching］
加工を必要とする基板に，フォトレジストのパターンを形成した後，基板を溶解する溶液でエッチングして穿孔もしくはくぼみを作る方法である(図)。…
※「リフト・オフ（工業）」について言及している用語解説の一部を掲載しています。
出典｜株式会社平凡社「世界大百科事典（旧版）」