世界大百科事典（旧版）内のホロー陰極放電法の言及
【薄膜】より
… 真空蒸着装置中に活性ガスを入れ，直流または高周波電場で放電プラズマを発生させ，蒸発源からの原子をそのプラズマをくぐらせて蒸着すると，原子は励起またはイオン化され，反応性が促進され良質の化合物薄膜が形成される(イオンプレーティングion plating)。プラズマでなく，加速電子で励起，イオン化する方法は，ホロー陰極放電法と呼ばれる。また，CVD法の変形で，高温で反応を行わせるかわりに，低温で放電を行わせて必要な物質を析出させる方法をプラズマCVD法といい，CVD法の反応槽に高周波または直流電力を導入する。…
※「ホロー陰極放電法」について言及している用語解説の一部を掲載しています。
出典｜株式会社平凡社「世界大百科事典（旧版）」
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