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エピタキシャルウェーハー えぴたきしゃるうぇーはー

世界大百科事典内のエピタキシャルウェーハーの言及

【結晶成長】より

…集積回路の素子の場合では,100mm径から150mm径の単結晶に育成したSiを0.6~0.8mm程度に切断後,研磨,鏡面研磨し0.5~0.6mmのウェーハーとして使用する。一部の種類の集積回路素子は,上記ウェーハー上に5~20μm厚のSiを気相でエピタキシャル成長させたエピタキシャルウェーハーを使用する。電力用素子や小信号増幅用個別素子用は,76mm径から125mm径,厚さ0.4~0.6mm程度に加工したウェーハーが使用されている。…

※「エピタキシャルウェーハー」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典|株式会社日立ソリューションズ・クリエイト
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