世界大百科事典（旧版）内の選択酸化の言及
【集積回路】より
…ゲルマニウムGeの時代にはICは出現せず，シリコンの時代になってICが登場したのはSiO2のこのような性質によるものである。 今日までに開発されてきたICウェーハープロセスの中で，きわめて重要な技術に選択酸化がある。これはウェーハー全面に酸化膜を形成するのではなく，ウェーハー表面の特定領域を選択的に酸化するもので，バイポーラーICのプロセスにも広く用いられている。…
※「選択酸化」について言及している用語解説の一部を掲載しています。
出典｜株式会社平凡社「世界大百科事典（旧版）」
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