世界大百科事典(旧版)内の選択酸化の言及
【集積回路】より
…ゲルマニウムGeの時代にはICは出現せず,シリコンの時代になってICが登場したのはSiO2のこのような性質によるものである。 今日までに開発されてきたICウェーハープロセスの中で,きわめて重要な技術に選択酸化がある。これはウェーハー全面に酸化膜を形成するのではなく,ウェーハー表面の特定領域を選択的に酸化するもので,バイポーラーICのプロセスにも広く用いられている。…
※「選択酸化」について言及している用語解説の一部を掲載しています。
出典|株式会社平凡社「世界大百科事典(旧版)」