世界大百科事典（旧版）内のphotoresistの言及
【フォトファブリケーション】より
…蒸着膜のような薄い膜の高精度のパターン形成に適しているため，集積回路の製造工程などマイクロリソグラフィーの分野でよく使われている。
［フォトレジストphotoresist］
薄い塗膜状にして光エネルギーを与えると化学変化を生じ，ある溶媒に対し不溶性に変化するネガ型と，光エネルギーにより分解し，ある溶媒に対して可溶性に変わるポジ型とがあり，写真原版を通して光を与えることによりパターン形成ができる。残った皮膜は基板の加工に対し耐性をもっていて，基板加工の際その部分を保護する。…
※「photoresist」について言及している用語解説の一部を掲載しています。
出典｜株式会社平凡社「世界大百科事典（旧版）」
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