高誘電率膜（読み）コウユウデンリツマク

化学辞典 第2版

高誘電率膜
コウユウデンリツマク
high-k film

比誘電率の高い誘電体膜のこと．スケーリング則に従いMOS(モス)トランジスターの微細化が行われた結果，ゲート酸化膜の膜厚は数 nm 以下となっており，ゲート絶縁膜のリーク電流により消費電力が問題となっている．もれ電流を抑えながらトランジスターとしての電流駆動能力を維持するためには，SiO₂の比誘電率k ＝ 4に比べて高誘電率膜をゲート絶縁膜として用いることが不可欠となった．膜の評価のための指数としてEOTと略称される等価酸化膜厚が用いられる．高誘電率で現在Al₂O₃，ZrO₂，HfO₂などが研究されているが，熱的安定性やSi表面でのOとSiの反応をいかに抑えるかが問題である．

出典　森北出版「化学辞典（第2版）」