化学辞典 第2版 「イオン注入装置」の解説
イオン注入装置
イオンチュウニュウソウチ
ion implantation equipment
半導体ウェファーに不純物を注入する装置．装置の構成は，イオン源系，質量分離系，イオンビーム加速系，イオンビームの偏向走査系，イオン注入室および真空排気系である．質量分離系に分離された不純物イオン流を注入室に導入し，電気的に任意に加速してウェファーに衝突させ，要求される深さにイオンを注入することができる．
出典 森北出版「化学辞典（第2版）」化学辞典 第2版について 情報
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