イオン注入装置（読み）イオンチュウニュウソウチ

化学辞典 第2版

イオン注入装置
イオンチュウニュウソウチ
ion implantation equipment

半導体ウェファーに不純物を注入する装置．装置の構成は，イオン源系，質量分離系，イオンビーム加速系，イオンビームの偏向走査系，イオン注入室および真空排気系である．質量分離系に分離された不純物イオン流を注入室に導入し，電気的に任意に加速してウェファーに衝突させ，要求される深さにイオンを注入することができる．

出典　森北出版「化学辞典（第2版）」