化学辞典 第2版 「イオン注入装置」の解説
イオン注入装置
イオンチュウニュウソウチ
ion implantation equipment
半導体ウェファーに不純物を注入する装置.装置の構成は,イオン源系,質量分離系,イオンビーム加速系,イオンビームの偏向走査系,イオン注入室および真空排気系である.質量分離系に分離された不純物イオン流を注入室に導入し,電気的に任意に加速してウェファーに衝突させ,要求される深さにイオンを注入することができる.
出典 森北出版「化学辞典(第2版)」化学辞典 第2版について 情報