事典 日本の地域遺産 の解説
ファインパターン・プロジェクション・マスク・アライナ(ステッパ) FPA-141F
「重要科学技術史資料(未来技術遺産)」指定の地域遺産〔第00066号〕。
世界で初めて1ミクロン以下の露光を可能にしたステッパの草分け的存在。〈製作者(社)〉キヤノン株式会社。〈製作年〉1975(昭和50)年
出典 日外アソシエーツ「事典 日本の地域遺産」事典 日本の地域遺産について 情報
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「重要科学技術史資料(未来技術遺産)」指定の地域遺産〔第00066号〕。
世界で初めて1ミクロン以下の露光を可能にしたステッパの草分け的存在。〈製作者(社)〉キヤノン株式会社。〈製作年〉1975(昭和50)年
関連語
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