フォトリソグラフィ（読み）ふぉとりそぐらふぃ（その他表記）photolithography

日本大百科全書(ニッポニカ)

フォトリソグラフィ
ふぉとりそぐらふぃ
photolithography

写真現像技術を応用した超微細な集積回路のパターンを作成する技術。半導体ウェハーの表面にフォトレジストとよばれる感光性物質を塗布したあと、そこにレチクル（フォトマスク）に書き込んだ集積回路のパターンを、ステッパーなどの露光装置により露光する。その後、現像、リンス、定着の過程を経て、感光した部分と未感光部分からなる集積回路のパターンを半導体ウェハー表面に転写する。この工程は、半導体素子、プリント基板、液晶ディスプレー、プラズマディスプレーなどの製造に利用される。初期は密着転写で同じ倍率の転写であったが、集積回路の微細化に伴い、レチクル像を縮小転写する方式に移行している。転写の際の回折によるぼけ効果を低減するために、波長の短い紫外線を用いる。さらに、最近の集積回路の極微細化のためにX線を用いたり、電子線でウェハー上に直接描画することもある。

［山本将史　2022年7月21日］

[参照項目] | 集積回路

出典　小学館　日本大百科全書(ニッポニカ)