炎光分析において共存物質の干渉がみられるとき,両対数方眼紙を用いて,横軸に測定対象の濃度C,縦軸に対象物質の輝度 I をプロットして曲線を描く.次に一定量の干渉物質の共存下で同じ測定を行って,濃度‐輝度曲線を同じ方眼紙上にプロットすると,前と同形で平行移動した形となるので,これをずらして重ねることができる.これを,ログログ平行移動の法則*という.
濃度‐輝度曲線は I=f(C)の形で表せるが,干渉物質共存下では f*(C)=nf×f(mC)と表現できるので,横軸の平行移動分 m と縦軸の平行移動分 n をそれぞれ濃度係数,強度係数と呼んでいる.これを応用した特殊な定量法も考案されている.