事典 日本の大学ブランド商品 の解説
ホットワイヤー化学気相堆積装置(HW-CVD)
九州工業大学（福岡県北九州市戸畑区）の大学ブランド。
ヘクサメチルジシラザン(HMDS)ガスを用いたシリコン炭窒化(SiCN)膜堆積装置。工学部電気工学科・和泉亮准教授の研究室の研究成果に基づき、ユニバーサルシステムズ株式会社(岡山県倉敷市)が商品化した。従来、シリコン炭窒化膜の堆積には危険なガスと高価な装置を使用しなければならず、一部特定の産業のみが利用していたが、この装置の登場により安全かつ安価なシリコン炭窒化膜堆積が可能となった。プラスチック、繊維、金属、半導体などさまざまな素材に対しコーティング膜を堆積し高硬度やさび防止などを実現、素材の持つ色彩を長期にわたり維持し、高機能材料として活用することができる。ユニバーサルシステムズ株式会社取り扱い。
（注）記載内容は事典編集当時（2010年2月）のものです。内容・価格等はその後に変更になった場合もあります。
出典 日外アソシエーツ「事典 日本の大学ブランド商品」事典 日本の大学ブランド商品について 情報
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