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マスク合せ マスクあわせmask alignment

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

マスク合せ
マスクあわせ
mask alignment

トランジスタ集積回路の製作において,繰返し行われるフォトエッチングの工程中,基板上に再現された先の図形上の所定の位置上に次の図形を形成するために行われるフォトマスクの図形の相対的位置合せの操作をいう。実際には数回ホトエッチングを繰返して三次元構造の微小半導体素子を製作するので,先の図形と次の図形との重なり具合がよくないと,半導体素子としての機能を果さなくなる。通常,フォトマスクと基板を平行に数十μm離して,拡大像を顕微鏡で見ながら,X軸Y軸,回転を合せ,次いでフォトマスクと基板を密着させて露光する。拡散工程などを経たのち,さらにこの操作を繰返す。位置合せマーク (ターゲット) を設け,その位置を光学的に検出し,自動的に合せる方法がある。

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