フォトエッチング（その他表記）photo etching

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典

フォトエッチング
photo etching

写真食刻法ともいった。半導体，金属，酸化被膜などの表面を部分的にエッチングするために，表面に耐薬品性の感光剤 (→フォトレジスト ) を塗布し，これを露光することによって，露光した部分 (あるいは露光しなかった部分) のフォトレジストを取去り，取去った部分だけを化学薬品などでエッチングする技術。微細で複雑なパターンを描いたマスクを用いてフォトレジストを露光することにより，半導体やその酸化被膜を微細に選択エッチングすることができ，酸化膜を用いた選択拡散技術を駆使するシリコンを中心としたトランジスタ，集積回路などの製造に欠くことのできない技術である。

出典　ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典

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フォトエッチング

写真的技法を利用した精密加工技術。紫外線が当たると耐酸性を得るフォトレジストという特殊感光剤を塗布し，焼付け現像して未感光部の感光剤を除去した後，フォトレジスト膜のない部分をエッチングにより除く。写真製版やテレビのシャドーマスクの製造に使用され，特に半導体ICの製造に大きな役を果たしている。感光剤を除去したのち，めっき法を利用して微細加工する方法はフォトエレクトロフォーミングphoto electro formingという。

出典　株式会社平凡社

世界大百科事典（旧版）内のフォトエッチングの言及

【集積回路】より

…これはウェーハー全面に酸化膜を形成するのではなく，ウェーハー表面の特定領域を選択的に酸化するもので，バイポーラーICのプロセスにも広く用いられている。ウェーハー表面にシリコン窒化膜Si₃N₄を形成し，酸化膜を成長させたい部分の窒化膜を後述のフォトエッチングによって除去し酸化する。窒化膜がある部分は酸化されない。…

【フォトファブリケーション】より

…現在ではとくにエレクトロニクスの分野では欠かすことのできない技術となり，各分野で広範囲に利用されている。　工程としては基板上に感光性をもつフォトレジスト層を設け，写真原版よりパターンを露光，必要部分を残して溶解除去し，エッチングまたはめっき方法により微細加工する(前者をフォトエッチング，後者をフォトエレクトロフォーミングという)。写真原版は希望する図柄を伸縮の少ないフィルム上に拡大して描き，その原図を特殊な縮写用カメラで通常数百分の1の大きさに縮写し，多面付けして作成する。…

※「フォトエッチング」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典｜株式会社平凡社「世界大百科事典（旧版）」