電子ビーム露光（読み）でんしビームろこう（その他表記）electron beam exposure

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典

電子ビーム露光
でんしビームろこう
electron beam exposure

感光剤を光で露光する代りに，電子ビームの照射で露光する方法。電子ビームの照射によって引起される重合，分解などの化学反応を利用する。感光剤は光露光の場合と同じものが用いられ，露光後の現像などの処理も光露光と同じである。微小な電子ビーム径 (0.1μm程度) を用いることにより極微小な面積の露光が可能である。また，電子ビームの照射を電気的に断続させながら試料面上を走査させることにより，微細な図形，文字などの露光ができる。シリコン半導体の集積回路の高集積化とともに，光露光を用いるフォトエッチング法による従来の集積回路製作では高集積化に限度があり，電子ビーム露光がこれに代って開発されつつある。微細な回路パターンの露光には電子ビームの照射をコンピュータで制御する。すでに1μm程度の微細な集積回路製作の例もあり，より一層の高集積化達成のため，今後重要な技術となる。

出典　ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典