SOI(読み)そい

  • silicon on insulator
  • エスオーアイ

ASCII.jpデジタル用語辞典の解説

1998年に米IBM社が発表した新しい半導体チップの製造プロセス技術。トラジジスタとシリコン層との間に、薄いシリコン酸化膜(絶縁膜)を形成することにより、シリコン層に滞留する電気を防ぎ、トランジスタの電気伝導率を向上させるもの。このSOIの技術の導入により、消費電力が少なく、高速なデータ転送が可能な半導体チップの製造が可能となった。

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デジタル大辞泉の解説

silicon on insulator》シリコン基板上に薄い絶縁層を介して、シリコンの単結晶薄膜を形成し、この薄膜上に二次元的に広がった形で作製されたシリコンデバイス。従来のものに比して素子間のアイソレーションが取れ、動作が二次元的となるので、設計性がよくなる。

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