CVD（読み）シーブイディー（その他表記）CVD

デジタル大辞泉

シー‐ブイ‐ディー【CVD】［chemical vapor deposition］

《chemical vapor deposition》⇒化学気相成長法

出典　小学館

最新 地学事典

シーブイディー
CVD

結晶の気相合成法の一種。chemical vapor depositionの略称。固体または液体原料を蒸発・昇華させて気体にし，この気体から結晶を得る方法をPVD（physical vapor deposition）と呼ぶが，CVDはこれに対する言葉で，成長させたい物質を含む化合物気体をなんらかの手段によって分解し，目的の物質を堆積させる方法をいう。この方法はさらに化合物気体を分解する手段の違いによって，熱フィラメントCVD法，電子衝撃CVD法，プラズマCVD法，燃焼炎法，光CVD法などに分けられている。ダイヤモンド薄膜やダイヤモンド半導体の製造など，工業的に数多く利用されているが，地球科学的にはダイヤモンド，SiC，FeSなど，隕石に含まれている鉱物の成因究明のための一つの手段として用いられる。

執筆者：青木 義和

出典　平凡社「最新 地学事典」

内科学 第10版

CVD

cerebrovascular disease，脳血管障害

出典　内科学 第10版

世界大百科事典（旧版）内のCVDの言及

【集積回路】より

…しかしVLSIではこの技術でも不十分になってきており，酸化膜をほぼ完全に基板の中に埋め込む新しい技術が開発されている。(2)化学的膜形成chemical vapor deposition(略してCVD)　原料元素を含む気体化合物を特定の温度に保ったウェーハー周囲に流し，化学変化によってウェーハー上で微粒子状の固体物質を析出，沈着させ，堆積により膜を形成する方法である。通常はシランガスSiH₄を原料とし，多結晶シリコン膜の場合には分解で，シリコン酸化膜の場合には酸素との反応で，またシリコン窒化膜の場合にはアンモニアガスとの反応により析出させる。…

【化学蒸着】より

…略称CVD。水溶液を使わないめっき法の一種で，気相物質間の化学反応で被処理材の表面に金属または化合物の皮膜を形成させる技術をいう。…

【集積回路】より

…しかしVLSIではこの技術でも不十分になってきており，酸化膜をほぼ完全に基板の中に埋め込む新しい技術が開発されている。(2)化学的膜形成chemical vapor deposition(略してCVD)　原料元素を含む気体化合物を特定の温度に保ったウェーハー周囲に流し，化学変化によってウェーハー上で微粒子状の固体物質を析出，沈着させ，堆積により膜を形成する方法である。通常はシランガスSiH₄を原料とし，多結晶シリコン膜の場合には分解で，シリコン酸化膜の場合には酸素との反応で，またシリコン窒化膜の場合にはアンモニアガスとの反応により析出させる。…

※「CVD」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典｜株式会社平凡社「世界大百科事典（旧版）」