低誘電率膜（読み）テイユウデンリツマク

化学辞典 第2版

低誘電率膜
テイユウデンリツマク
low-k film

LSIでおもに用いられてきたSiO₂の比誘電率3.9に比べて，より低い比誘電率の膜．LSIが高機能化，高速化を進めていくうちに，設計の複雑さを避けるために配線が何層にも及ぶようになってきている．このため，トランジスター自体のもつ容量に比べて寄生容量とよばれる配線部分で構成される容量が大きくなり，配線の金属の抵抗とこの容量での回路の動作スピードが制限されるようになってきた．実際に用いられている膜では，SiOF膜やSiOC膜，アモルファスカーボン膜，ポーラスSiO₂膜など，分極成分を減らしたり膜密度を下げる構造を用いて低い比誘電率を実現している．

出典　森北出版「化学辞典（第2版）」