スパッタイオンポンプ（その他表記）sputter ion pump

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典

スパッタイオンポンプ
sputter ion pump

放電により気体分子をイオン化して，それを陰極に捕集するとともに，陰極そのものにチタンを用いることによって，ゲッターポンプとしての作用ももたせた真空ポンプ。陰極のチタンにイオン化した粒子が衝突した際に，運動エネルギーを与えられたチタン原子が固体表面から飛び出すスパッタリング現象により，陰極の表面が常に新鮮なチタン面になることと，飛出したチタン原子がステンレス鋼などでつくられた陽極に付着してチタン膜を形成することを利用してゲッター作用を高めている。また，イオン化のための放電が超高真空領域まで持続するように磁界をかける。多量の気体を排気するのには不向きで，10^-4Pa 以下でその能力を発揮する。到達真空度は 10^-8Pa 程度である。油などを使用しないので清浄な超高真空が得られ，機械的駆動部がないので無振動，無騒音である。また，ペニング真空計と同じ原理で作動するので，排気と圧力測定が同時に行える。

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