拡散技術 かくさんぎじゅつdiffusion technology

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

拡散技術
かくさんぎじゅつ
diffusion technology

半導体表面を真空中または不活性ガス中で加熱し，これに適当な不純物の蒸気を接触させて不純物原子を結晶内に拡散させ，結晶の表面近くにp-n接合や不純物密度の異なる層などをつくる技術。この際に，穴をあけた二酸化シリコンなどの薄層をシリコン (ケイ素) 表面に付着させておくと，場所，大きさ，形を任意に選んで拡散を行うことができる。不純物と穴の種類を変えてこの工程を繰返すことにより，同一の基板中に複雑な構造のダイオードやトランジスタを同時に多数作製できる。半導体素子や集積回路を作製するために広く用いられるきわめて重要な技術である。

出典｜ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典