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拡散技術 かくさんぎじゅつ diffusion technology

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ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

拡散技術
かくさんぎじゅつ
diffusion technology

半導体表面を真空中または不活性ガス中で加熱し,これに適当な不純物の蒸気を接触させて不純物原子を結晶内に拡散させ,結晶の表面近くにp-n接合や不純物密度の異なる層などをつくる技術。この際に,穴をあけた二酸化シリコンなどの薄層をシリコン (ケイ素) 表面に付着させておくと,場所,大きさ,形を任意に選んで拡散を行うことができる。

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出典|ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典
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