ドライプロセス

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ドライプロセス

半導体加工や光ディスクなどへの表面薄膜蒸着その他の材料加工を，ガス中の反応を用いたり，高真空中に原子や分子あるいはイオンなどを飛ばして行うプロセス技術の総称。溶液中での化学反応処理を中心に材料加工を行うウェットプロセスと対比していう。ドライエッチングやイオン注入，原料物質を気体で供給して結晶成長させたり（気相エピタキシー），ガスの化学反応によって薄膜を形成させる（CVD）など，さまざまな手法が開発され，エレクトロニクス先端技術の重要な柱となっている。
→関連項目イオン工学

出典　株式会社平凡社