略称CVD法.気相成長法のうち,混合気体原料をキャリヤーとともに流し,反応によって基板上に単結晶を析出させる方法で,一種の気相エピタキシー成長法である.この方法によるシリコン単結晶層の成長が,ブレーナー型トランジスターやICなどの技術を可能にした.最近では,この方法によるGaAsなどの化合物半導体,さらにはフェライトなどの磁性体の単結晶層成長も行われている.
出典 森北出版「化学辞典(第2版)」化学辞典 第2版について 情報
機械メーカー。トヨタグループの総本家で,繊維機械のほかトヨタ自動車からの小型商用車の受託生産,エンジンその他の自動車部品,フォークリフトなどの産業用車両の生産も行なう。1926年豊田佐吉が,みずから発...