化学蒸着法（読み）カガクジョウチャクホウ

デジタル大辞泉

かがく‐じょうちゃくほう〔クワガクジヨウチヤクハフ〕【化学蒸着法】

⇒化学気相成長法

出典　小学館

化学辞典 第2版

化学蒸着法
カガクジョウチャクホウ
chemical vapor deposition method

略称CVD法．気相成長法のうち，混合気体原料をキャリヤーとともに流し，反応によって基板上に単結晶を析出させる方法で，一種の気相エピタキシー成長法である．この方法によるシリコン単結晶層の成長が，ブレーナー型トランジスターやICなどの技術を可能にした．最近では，この方法によるGaAsなどの化合物半導体，さらにはフェライトなどの磁性体の単結晶層成長も行われている．

出典　森北出版「化学辞典（第2版）」