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フォトマスク photomask

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

フォトマスク
photomask

半導体に写真技術と化学腐触 (エッチング) を併用して微細加工するフォトエッチングにおいて,紫外線照射時に用いる写真露光用の原画フィルム。高分子のフォルム上に高解像力の乾板材を塗布したエマルジョンマスクと,ガラス上に無機薄膜材料を堆積させたハードマスクとに分類できる。エマルジョンマスクは高感度,量産性,安価など利点をもっているが,銀粒子画像のため解像力が悪く (解像力2μm) ,耐久性に乏しい。ハードマスクは上の欠点を除くために開発されたもので,良質画像 (解像力1μm) と耐久性があるが,高価で製造法が複雑である。材料としては,クロム,酸化クロム,酸化鉄,シリコンなどが用いられる。いずれも蒸着法や気相成長法などで形成された厚さ 0.1~0.5μmの薄膜で,材料によっては表面反射を下げる工夫をしたものもある。製作工程は,(1) 使用するマスク画像の 10倍画像 (レクチルという) の製作,(2) 1/10縮小によるマスターマスクの製作,(3) 密着焼付けによる実用フォトマスクのコピー,の3工程である。

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