コトバンクはYahoo!辞書と技術提携しています。

光CVD法 ひかりシーブイディーほうphoto-chemical vapor deposition method

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

光CVD法
ひかりシーブイディーほう
photo-chemical vapor deposition method

光エネルギーを利用した薄膜堆積方法。半導体素子の微細化,高性能化に伴い,製造プロセスの低温化が要求されており,これに対応する薄膜形成技術として開発された。光源として水銀ランプ(→高圧放電ランプ),エキシマレーザーアルゴンレーザーなどが使われる。原料のガスをこれらの光源で直接励起する方法と,基板およびその吸着物を励起する方法に分けられ,さらに紫外光により電子励起を起こすものと,赤外領域の光で分子の振動・回転励起を起こすものがある。また水銀などの光増感剤をガスに混入する方法もある。反応ガスは,シリコン膜にはシランまたはジシランを,シリコン酸化膜の堆積にはそれに酸化窒素シリコン窒化膜にはそれにアンモニアを混合させる。レーザー光源を用いることにより局所的に膜を堆積できるため,大規模集積回路 LSI配線パターンの修正や配線直描などの応用もある。

出典 ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典について 情報

今日のキーワード

ムガベ大統領

1924年、英植民地の南ローデシア(現ジンバブエ)生まれ。解放闘争に参加し、80年にジンバブエを独立に導いた。同年から首相、87年から大統領として実権を握り続けた。2000年以降は白人農場主の農園を強...

続きを読む

コトバンク for iPhone

コトバンク for Android