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光CVD法 ひかりシーブイディーほう photo-chemical vapor deposition method

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ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

光CVD法
ひかりシーブイディーほう
photo-chemical vapor deposition method

光エネルギーを利用して薄膜たい積する方法。半導体素子の微細化・高性能化に伴い,製造プロセスの低温化が要求されており,これに対応する薄膜形成技術として開発されている。光源としては,水銀ランプエキシマーレーザー,アルゴンレーザーなどが使われる。

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出典|ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典
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