化学気相成長法（読み）カガクキソウセイチョウホウ

デジタル大辞泉

かがくきそう‐せいちょうほう〔クワガクキサウセイチヤウハフ〕【化学気相成長法】

原料を含む混合ガスを加熱した基板の上に流し、熱分解などの化学反応によって表面に結晶や非晶質の薄膜を蒸着させる方法。半導体素子の製造過程において、絶縁体や金属などの薄膜を形成するのに欠くことのできない重要な技術。化学蒸着法。化学気相堆積法。化学気相反応法。CVD（chemical vapor deposition）。

出典　小学館