vapor deposition
気相から基板に衝突した元素による薄膜の形成。通常は目的の物質を真空中で蒸発させ,離れた場所にある基板上に蒸発物質の薄膜を形成する。このとき,平均自由行程は蒸発源と基板との距離よりも十分に大きい必要がある。また,基板温度は蒸着物質の平衡蒸気圧が十分小さくなる温度である必要がある。代表例は,走査型電子顕微鏡観察を行う際に試料の帯電を低減する目的で事前に行う,試料上への炭素などの薄膜の形成。
執筆者:木村 勇気・砂川 一郎
参照項目:エピタキシー
出典 平凡社「最新 地学事典」最新 地学事典について 情報
「真空蒸着」のページをご覧ください。
出典 ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典について 情報
…(1)ウェーハー表面に特定の種類の薄膜を形成すること。これには,酸化,化学的膜形成,蒸着,スパッターリングなどの方法がある。(2)特定の種類のガス雰囲気中で高温状態にすること。…
※「蒸着」について言及している用語解説の一部を掲載しています。
出典|株式会社平凡社「世界大百科事典(旧版)」
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