物理気相成長法（読み）ブツリキソウセイチョウホウ

デジタル大辞泉

ぶつりきそう‐せいちょうほう〔ブツリキサウセイチヤウハフ〕【物理気相成長法】

原料をプラズマやレーザーで加熱して蒸発させ、対象とする基板や金属の表面に、物理的に薄膜を蒸着させる方法。分子線エピタキシー、スパッタリング、イオンプレーティングなどの手法があり、半導体素子の製造、工具や金型の表面処理に利用される。物理蒸着法。PVD（physical vapor deposition）。

出典　小学館