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フォトリソグラフィー フォトリソグラフィー photo lithography

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ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

フォトリソグラフィー
フォトリソグラフィー
photo lithography

集積回路を製造する際,ICパターン転写の工程で光を用いる技術。ガラスマスクを通して光を照射し,感光性樹脂を塗布した半導体ウエア上に微細な ICパターンを転写する。 LSI微細化を進めるうえで欠かせない技術とされており,光学系の改善や,感光性樹脂の転写精度の向上などにより解像度が向上し,今では 0.5μ以下の素子の加工も可能となっている。

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出典|ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典
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デジタル大辞泉の解説

フォトリソグラフィー(photolithography)

《「フォトリトグラフィー」とも》半導体集積回路などの製造工程で、シリコンウエハー上にフォトレジストという感光材料を塗布し、レチクルフォトマスク)とよばれる回路のパターンの原板を重ねて光を照射し、エッチングなどで刻み込む技術。光リソグラフィーリソグラフィー

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