コトバンクはYahoo!辞書と技術提携しています。

ドライエッチング ドライエッチングdry etching

3件 の用語解説(ドライエッチングの意味・用語解説を検索)

デジタル大辞泉の解説

ドライ‐エッチング(dry etching)

半導体集積回路などの微細回路を作製する際、プラズマガスやイオンを用いて、不必要な部分を取り去る(エッチング)こと。

出典|小学館
デジタル大辞泉について | 情報 凡例

百科事典マイペディアの解説

ドライエッチング

集積回路(IC)の形成など半導体を加工する際に,半導体基板の表面薄膜または半導体の一部を削り取るのに,反応性イオンガスやプラズマガスを用いる方法。フッ化水素酸溶液などを用いるウェットエッチングと対比していう。
→関連項目イオン工学ドライプロセス

出典|株式会社日立ソリューションズ・クリエイト
百科事典マイペディアについて | 情報

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

ドライエッチング
ドライエッチング

乾式エッチング」のページをご覧ください。

出典|ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典
ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典について | 情報

世界大百科事典内のドライエッチングの言及

【集積回路】より

…(7)エッチング 本来は金属表面を化学薬品で腐食させることであるが,ICでは,パターン転写後に薄膜の不要部分を除去することおよびあるプロセスで使用した薄膜をその後の工程のために全面的に除去することをいう。従来はもっぱら液体の薬品(フッ酸,塩酸,硝酸,硫酸など)を使用するウェットエッチングであったが,最近はガス(CF4など)放電による活性基でエッチングするドライエッチングが多く用いられている。 フォトエッチングと呼ばれるプロセスは,露光,現像によってパターン形成したフォトレジストをマスクとしてその下地をエッチングする方法である。…

【プラズマ化学】より

… プラズマを利用した蒸発過程(エッチング)は,ICやLSIなど半導体微細加工技術として重要性を増している。シリコンウエハーに画像を描画する際,シリコン層や有機レジスト層の薄膜を除去する過程が必要であるが,プラズマを利用してこれを行うことが可能であり,ドライエッチングと呼ばれる。シリコン層の場合はフルオロカーボンのプラズマで処理すると分解生成物がシリコン層と反応し,SiF4となって気化除去される。…

※「ドライエッチング」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典|株式会社日立ソリューションズ・クリエイト
世界大百科事典 第2版について | 情報

今日のキーワード

百条委員会

地方自治体が議決により設置する特別委員会の一つ。名称は「地方自治法第100条」に基づく。百条委員会は、地方公共団体の事務に関する調査を行い、関係者への聞き取りや記録の提出を請求、拒否した者には罰則が科...

続きを読む

コトバンク for iPhone

ドライエッチングの関連情報