プラズマイオンプロセス（英語表記）plasma ion process

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プラズマイオンプロセス
plasma ion process

大規模集積回路 LSIの製造工程技術。ガスの放電によって生じるプラズマには，イオン，中性ラジカル，電子が含まれ，それらを利用することで集積回路製造工程の低温化，精密化，ドライ化，スループットの増大などが可能になる。製造工程の自動化が進展し，従来の熱工程および各種の溶液洗浄工程を中心とするプロセスから，プラズマイオンプロセスへの転換が進む。薄膜を堆積するスパッタリング技術やプラズマCVD（気相成長），基板に不純物を導入するイオン注入，パターン形成を行なう反応性イオンエッチング（→乾式エッチング）などは，LSI製造には不可欠の技術として使われる。

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