物理蒸着（読み）ぶつりじょうちゃく（英語表記）physical vapor deposition

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典

物理蒸着
ぶつりじょうちゃく
physical vapor deposition

略称 PVD。抵抗加熱や電子ビームによる加熱，あるいはスパッタリングなど物理的な方法で金属や化合物などを蒸発させ，基板上に堆積させて皮膜を得る方法。化学蒸着 CVDが高温処理であるのに対し，常温あるいは中高温処理のため基材への影響が少い。真空蒸着，イオンプレーティング，スパッタリングの3種類の方法がある。真空蒸着は装置が簡単で，主としてレンズなどの光学材料への被覆に用いられる。イオンプレーティングは密着性，膜質，ガスとの反応性を向上させることができるため，工具などへの硬質皮膜の被覆に利用され，寿命の延長や加工精度の向上に役立つ。スパッタリングは複雑な組成の皮膜の形成が可能となることから，酸化物超伝導膜を代表とする電子材料などの機能膜の作製に用いられている。

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