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物理蒸着 ぶつりじょうちゃく physical vapor deposition

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ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

物理蒸着
ぶつりじょうちゃく
physical vapor deposition

略称 PVD抵抗加熱電子ビームによる加熱,あるいはスパッタリングなど物理的な方法で金属や化合物などを蒸発させ,基板上に堆積させて皮膜を得る方法。化学蒸着 CVDが高温処理であるのに対し,常温あるいは中高温処理のため基材への影響が少い。

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出典|ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典
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