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フォトレジスト photoresist

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典の解説

フォトレジスト
photoresist

感光性耐食被膜のことをいう。金属半導体などに微細加工を施す際に,写真技術と化学腐食 (エッチング) を用いるフォトエッチングにおいて用いられる。エッチングにより微小部分を取去りたい金属や半導体の表面にフォトレジストを薄膜状に塗布し,これにフォトマスクを当てて紫外線を照射して感光させる。マスクの透明な部分だけ紫外線が透過し,照射された部分は重合が進んで有機溶剤 (現像液) に溶けなくなる。未感光部は溶けるので,フォトマスク上の図形に相当した図形が金属や半導体表面に再現される。紫外線の感光部が現像液に溶ける場合もありこれをポジ型といい,未感光部が溶ける場合をネガ型という。

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デジタル大辞泉の解説

フォトレジスト(photoresist)

薄膜にして光・紫外線などを照射すると、当たった部分だけが構造変化し、耐薬品性の硬膜をつくったり、薬品に溶けやすくなったりする材料。IC回路・LSI回路・プリント配線などの作製に用いられる。

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百科事典マイペディアの解説

フォトレジスト

主として半導体の微細加工に用いられる感光性樹脂をいう。半導体ウェーハー表面に集積回路を形成するときなどに,表面に均一に塗布し,乾燥後ネガマスクを置いて紫外線を照射,回路パターンを焼き付ける。
→関連項目感光性高分子機能性高分子東京応化工業[株]フォトエッチング

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大辞林 第三版の解説

フォトレジスト【photoresist】

薄膜にして光を照射すると、耐薬品性の大きな硬質膜に変化する感光性材料。ポリケイ皮酸ビニルをはじめとする感光性樹脂などが使われる。耐薬品性の増すものだけでなく、逆に、薬品に溶けやすくなるものもいう。プリント配線基板・ IC ・ LSI の製造、新聞などの印刷版の作製などに利用される。

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世界大百科事典内のフォトレジストの言及

【集積回路】より

…パターン形成した表面の膜は,イオン注入に対するマスクとなる。このマスクには二酸化シリコンSiO2,窒化シリコンSiN4,アルミニウムAlの蒸着膜および後述のフォトレジストが用いられる。このような方法で,例えばp型シリコン基板にリンP,またはヒ素Asのイオンを注入してn型領域を形成し,ここをp‐n接合とすることができる。…

【フォトファブリケーション】より

…現在ではとくにエレクトロニクスの分野では欠かすことのできない技術となり,各分野で広範囲に利用されている。 工程としては基板上に感光性をもつフォトレジスト層を設け,写真原版よりパターンを露光,必要部分を残して溶解除去し,エッチングまたはめっき方法により微細加工する(前者をフォトエッチング,後者をフォトエレクトロフォーミングという)。写真原版は希望する図柄を伸縮の少ないフィルム上に拡大して描き,その原図を特殊な縮写用カメラで通常数百分の1の大きさに縮写し,多面付けして作成する。…

※「フォトレジスト」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

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