出典 ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典について 情報
LSIにおいて微細パターンをつくるため,プラズマにより励起状態にしたガスを用いて半導体や誘電体などを除去する技術のこと.代表的な例としては,SiがF系のガスによりSiF4となって気化する性質があるが,この反応は通常は起こりにくいため,励起状態にした反応性の高い分子や原子を用いてSiとFを反応させる.液体の反応と違い表面張力の影響がないので,微細なパターンでも容易につくることができる.エッチング条件によっては,反応性ガスの基板への入射方向を電界により制御できるので,トレンチとよばれる幅が狭く深い溝をつくることもできる.
出典 森北出版「化学辞典(第2版)」化学辞典 第2版について 情報
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