出典 ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典について 情報
LSIにおいて微細パターンをつくるため,プラズマにより励起状態にしたガスを用いて半導体や誘電体などを除去する技術のこと.代表的な例としては,SiがF系のガスによりSiF4となって気化する性質があるが,この反応は通常は起こりにくいため,励起状態にした反応性の高い分子や原子を用いてSiとFを反応させる.液体の反応と違い表面張力の影響がないので,微細なパターンでも容易につくることができる.エッチング条件によっては,反応性ガスの基板への入射方向を電界により制御できるので,トレンチとよばれる幅が狭く深い溝をつくることもできる.
出典 森北出版「化学辞典(第2版)」化学辞典 第2版について 情報
敵対的買収に対する防衛策のひとつ。買収対象となった企業が、重要な資産や事業部門を手放し、買収者にとっての成果を事前に減じ、魅力を失わせる方法である。侵入してきた外敵に武器や食料を与えないように、事前に...
4/12 日本大百科全書(ニッポニカ)を更新
4/12 デジタル大辞泉を更新
4/12 デジタル大辞泉プラスを更新
3/11 日本大百科全書(ニッポニカ)を更新
2/13 日本大百科全書(ニッポニカ)を更新