ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典「イオンプレーティング」の解説
イオンプレーティング
ion plating
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物理蒸着法(PVD:physical vapor deposition)の一種.原子,分子状態にある蒸気化した物質をイオン化もしくは励起粒子として活性化し,負の高電位にある基板に加速して堆積させることで薄膜を作製する方法.活性化には原則として低ガス圧の領域での弱電離プラズマによる低温プラズマを用いる場合が多く,反応ガスのプラズマを利用して蒸発粒子と結合させ,化合物膜を合成させる反応性イオンプレーティングが一般的である.低い反応温度で結晶性のよい膜が得られるとされる.
出典 森北出版「化学辞典(第2版)」化学辞典 第2版について 情報
出典 株式会社平凡社世界大百科事典 第2版について 情報
…これを利用する方法を反応性スパッタリングといい,化合物薄膜形成技術として重要である。 真空蒸着装置中に活性ガスを入れ,直流または高周波電場で放電プラズマを発生させ,蒸発源からの原子をそのプラズマをくぐらせて蒸着すると,原子は励起またはイオン化され,反応性が促進され良質の化合物薄膜が形成される(イオンプレーティングion plating)。プラズマでなく,加速電子で励起,イオン化する方法は,ホロー陰極放電法と呼ばれる。…
…結晶中の原子の幾何学的な配列の様式を結晶構造という。分子も原子の集りによって幾何学的に構成され,分子構造をもつから,分子性結晶では,ある構造をもった分子が集まって,結晶構造という別の構造を幾何学的に構成していることになる。結晶の基本的な性質は,その結晶構造に依存している。したがって,結晶構造についての詳細な知識は結晶の物理的性質の研究に重要であるばかりでなく,必要とする物性をもった結晶を合成する指針ともなりうる。…
…これを利用する方法を反応性スパッタリングといい,化合物薄膜形成技術として重要である。 真空蒸着装置中に活性ガスを入れ,直流または高周波電場で放電プラズマを発生させ,蒸発源からの原子をそのプラズマをくぐらせて蒸着すると,原子は励起またはイオン化され,反応性が促進され良質の化合物薄膜が形成される(イオンプレーティングion plating)。プラズマでなく,加速電子で励起,イオン化する方法は,ホロー陰極放電法と呼ばれる。…
※「イオンプレーティング」について言及している用語解説の一部を掲載しています。
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